光刻胶是混合物，由树脂、溶剂、感光剂、添加剂等等混合而成的一种液体材料，这种材料对光非常敏感。

其中树脂起到了粘合的作用，把不同的材料粘合在一起，使得光刻胶具备了一定的机械性能和化学性质。

感光剂就是光活性非常强的化合物，对光非常敏感，在受到光照的时候能发生化学反应。

在光刻胶中，树脂和感光剂在其中的比例几乎是一样的。

溶剂的作用就是使得光刻胶具备了流动性。

至于添加剂使得光刻胶具备了特殊化学性质。

光刻胶应用广泛，在半导体、微机电系统、太阳能光伏等等都具有广泛的应用！

而且光刻胶的种类繁多，如果按照应用不同可以分为半导体光刻胶、pcb光刻胶、面板光刻胶等等。

要是按照曝光的波长来分呢，又可以分为紫外光刻胶，它的波长在300纳米——450纳米之间，还有深紫外光刻胶，它的波长在160纳米——280纳米之间，后边还有极紫外光刻胶，波长是13.5纳米……

后边还有电子束光刻胶、离子束光刻胶、x射线光刻胶等等。

不过总的来说，可以分为正光刻胶和负光刻胶。

正光刻胶就是原本是不可溶的液体在经过光照之后变成可溶的了。

负光刻胶正好相反，一开始是可溶的液体，在经过光照之后变成了不可溶的了。

对于光刻胶的知识在经过小芳的讲解之后，王昊天已经了然于胸了，他来到了一号车间，在那里有着一个小试管瓶。

王小芳随手丢给了王昊天：“这就是我们最新研制出来的光刻胶，效果不比倭寇国的arf光刻胶差，就算用到5nm的都没有任何问题啦。”

在这一点上，王小芳非常的有自信。

其实材料就是不断的调试以及实验，调整配方，得到性能优良的材料，得到自己最想要的，在这一点上小芳有着丰富的知识。