光刻机的研发非常非常难！

难到什么程度，难到原本七八十年代还有美国、欧洲、日本等好几个国家都在从事光刻机研发制造的企业。到了九十年代末，只有美国和欧洲还继续走在这条路上，日本已经渐渐力不从心，不得不退出了光刻机研发竞争。

由于金融资本占据绝对上风，目前全球产业链思想越发盛行，大量高精尖制造产业向低收入国家和地区转移，如今在美国，就连英特尔、德州仪器这样的巨头，也感到越来越难以支撑了。

白云天知道，未来顶尖的光刻机生厂商，将会进一步淘汰，最终只有荷兰的asl还能继续存活。

若是没有《制造史回顾》为后盾，他也没有勇气冒着巨大风险，贸然涉足这个行业。

但现在就不同了。

白云天戴着护目镜，站在观察口，望着充满了氩气的真空冶炼炉外，观察着一汪呈现液态的熔融物，对比仪器上的显示数据，满意地点了点头。

他正在看的，是实验室内制备的高纯度玻璃。

光刻机就是用高能光束，对光刻胶进行蚀刻的设备，为了保证刻蚀宽度足够细，因此光束也必须非常集中，达到纳米级才能充分聚焦。

光束本身不可能这么细，要想达到需要的直径，就只能通过透镜对其进行聚焦。

众所周知，玻璃看似透明，但内部其实有很多杂质。

如果是用普通的玻璃制作成透镜，对光束进行聚焦，就会因为内部的各种杂质，导致光束被分散、偏移，导致聚焦不准。

为了保证聚焦成功，只能放宽光束直径。

这就是早期光刻机的光刻宽度有限的根本原因，而提升光刻机的刻蚀精度，就是要想方设法，约束光束的聚焦范围，范围越小，精度就越高。

要保证聚焦范围，一方面是研发波长更短的高能激光，一方面就是提升透镜的透光度。

两者缺一不可。